Vindi, Eka Dewi (2010) PENGENDAPAN BERTINGKAT OKSIDA LOGAM KROMIUM DAN SENG DARI LIMBAH CAIR ELEKTROPLATING. S1 thesis, UNY.
Text
PENGENDAPAN_BERTINGKAT_OKSIDA_LOGAM_KROMIUM_DAN_SENG.docx Download (11kB) |
Abstract
Tujuan dari penelitian ini adalah untuk mengetahui suhu kalsinasi optimum dalam proses pembentul:an kromium oksida da.n seng oksida hasil pengendal}an bertingkat serta untuk mengetahui konsentrasi kromium oksida dan seng oksida hasil pengendapan bertingkat pada suhu kalsinasi optimum. Penelitian ini diiakukan dengan metode pengendapan bertingkat. Tahap pertama dilakukan pengendapan ion Ag}, Pb'`+, dan Ilg2. + dengan cara menambahkan HC12 M ke dalam sampel. Ion lo am Cu 2+ diendapkan dengan menambahkan KSCN O,l M, sedangkan ion logam Fe + diendapkan dengan cara menambahkan larutan K3[Fe(CN)6] 0,033 M. Ion logam N i2+ diendapkan dengan menambahkan KCN 0,1 M ke dalam sampel limbah. Langkah pengendapan yang terakhir yaitu pengendapan logam Cr dan Zn, yaitu dengan cara menambahkan larutan NaOH 20% ke dalam sampel, sehingga didapatkan endapa.n kromium hidroksida dan seng hidroksida. Endapan ini kemudian dikalsinasi pada variasi suhu 500 °C, 600 °C, dan 700 °C selama 1 jam, sehingga didapatkan endapan kromium oksida dan seng oksida. Endapan selanjutnya dilarutkan dan dianalisis den-an menggunakan Spektrofot,:)metri Serapan Atom (SSA). Hasil penelitian menunjukkan bahwa suhu kalsinasi optimum dalam proses pembentukan kromium oksida dan seng oksida hasil pengendapan bertingkat adalah 500°C. Konsentrasi kromium oksida dan seng oksida hasil pengendapan bertingkat pada suhu kalsinasi optimum 500°C masing-masing adalah 0,7797 ppm dan 35,951 PPM. Kata kunci : elektroplating, pengendapan bertingkat, oksidasi logam kromium dan seng.
Item Type: | Thesis (S1) |
---|---|
Subjects: | Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam > Kimia |
Divisions: | Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam (FMIPA) > Jurusan Pendidikan Kimia > Kimia |
Depositing User: | Eprints |
Date Deposited: | 07 Aug 2012 03:36 |
Last Modified: | 29 Jan 2019 15:28 |
URI: | http://eprints.uny.ac.id/id/eprint/3087 |
Actions (login required)
View Item |