STRUKTUR MORFOLOGI DAN FOTOLUMINISENSI FILM TIPIS Ga2O3:Mn

Putut, Marwoto and Ng. Made, D.P. and Agus, Yulianto and Sugianto, - and Sunarno, - (2009) STRUKTUR MORFOLOGI DAN FOTOLUMINISENSI FILM TIPIS Ga2O3:Mn. Seminar Nasional Penelitian, Pendidikan, dan Penerapan MIPA 2009. ISSN 978-979-96880-5-7

Preview

Text 41_Fis_Putut.pdf Download (159kB) | Preview

Abstract

Telah ditumbuhkan film tipis Ga2O3 yang didoping Mn 5% fraksi mol (Ga2O3:Mn) dengan menggunakan metode DC Magnetron sputtering. Film ditumbuhkan di atas substrat silikon pada suhu 600oC, tekanan gas argon 550 mtorr dan daya plasma masing-masing 25, 30 dan 35 watt. Karakterisasi dengan SEM menunjukkan bahwa peningkatan daya plasma telah meningkatkan ukuran butir (grain size) yang lebih tinggi. Hasil karakterisasi dengan spektrometer fotoluminisensi menunjukkan bahwa film tipis Ga2O3:Mn (5%) memancarkan emisi pada warna hijau dengan puncak yang kuat ~ 490 nm. Dari eksperimen dapat ditunjukkan bahwa peningkatan daya plasma dapat meningkatkan intensitas fotoluminisensi.

Item Type:	Article
Uncontrolled Keywords:	Ga2O3:Mn, magnetron sputtering, struktur morfologi, fotoluminisensi
Subjects:	Prosiding > Seminar Nasional Penelitian, Pendidikan, dan Penerapan MIPA 2009
Divisions:	Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam (FMIPA) > Pendidikan Fisika > Fisika
Depositing User:	Eprints
Date Deposited:	04 Mar 2015 02:24
Last Modified:	06 Mar 2019 00:44
URI:	http://eprints.uny.ac.id/id/eprint/12248

Actions (login required)

View Item