TY - THES N2 - Penelitian ini bertujuan untuk membuat lapisan tipis TiN pada substrat kaca menggunakan metode sputtering DC. Selain itu, untuk mengetahui pengaruh variasi lama waktu deposisi lapisan tipis TiN hasil preparasi terhadap sifat optik berupa band gap menggunakan UV-Vis, morfologi dan komposisi kimia menggunakan SEM-EDS, dan struktur kristal menggunakan X-RD. Penelitian ini dimulai dengan membuat lapisan tipis dari paduan Titanium dan Nitrogen pada substrat kaca dengan menerapkan metode sputtering DC. Preparasi tersebut dilakukan sebanyak tiga kali dengan memvariasi waktu pendeposisian selama 30, 60, dan 90 menit. Pada saat proses sputtering berlangsung parameter yang lain dibuat tetap seperti pada tegangan dijaga berkisar 4 kV, kuat arus berkisar 10 mA, tekanan vakum sebesar (1,9 ? 2,2) x10-2 torr, perbandingan antara gas Argon dan Nitrogen yang mengalir sebesar 70:30, dan jarak target dengan substrat sejauh 4 cm. Metode sputtering DC dapat digunakan untuk membuat lapisan tipis TiN. Hasil uji UV-Vis diolah dengan software Origin didapatkan band gap untuk waktu deposisi 30 menit sebesar 3,47 eV, waktu deposisi 60 menit sebesar 3,59 eV, dan waktu deposisi 90 menit sebesar 3,68 eV. Uji SEM-EDS dikenai pada sampel waktu deposisi 60 menit. Hasil uji SEM terlihat batas-batas butir pada permukaan sampel dan pada penampang melintang didapatkan ketebalan lapisan yang terbentuk sebesar 1,588 ?m. Hasil uji EDS didapatkan presentase berat Ti sebesar 13,6%, N sebesar 51,8%, dan Si sebesar 34,6%. Hasil uji XRD lapisan TiN yang terbentuk pada substrat kaca masih terlalu tipis, sehingga sinar-X menembus lapisan dan mengenai substrat kaca yang bersifat amorf. M1 - skripsi UR - http://eprints.uny.ac.id/57997/ Y1 - 2018/07/19/ KW - Lapisan tipis TiN KW - Sputtering DC KW - UV-Vis KW - SEM-EDS KW - XRD ID - UNY57997 TI - PREPARASI DAN KARAKTERISTISI LAPISAN TIPIS TITANIUM NITRIDA (TiN) PADA SUBSTRAT KACA HASIL DARI METODE SPUTTERING DC PB - FMIPA A1 - Isnuwati, Nurfitriyana Ramadhani A1 - Sujito, Tjipto AV - public ER -